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- 产品名称：抛光用氧化铝
- 产品型号：
- 产品展商：其它品牌
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简单介绍
研磨抛光用氧化铝，该系列产品针对不同的用途，采用特殊的生产工艺进行控制，对产品的晶粒形貌以及产品的粒度分布进行严格控制，产品晶粒形貌呈圆片状、粒度分布窄、不易产生划痕特别适于精细抛光。产品硬度高（莫氏硬度为9），且浮稳定性好，具有良好的研磨抛光性能。
产品描述
研磨抛光用氧化铝
概述：抛光用氧化铝，该系列产品针对不同的用途，采用特殊的生产工艺进行控制，对产品的晶粒形貌以及产品的粒度分布进行严格控制，产品晶粒形貌呈圆片状、粒度分布窄、不易产生划痕特别适于精细抛光。抛光用氧化铝其产品硬度高（莫氏硬度为9），且浮稳定性好，具有良好的研磨抛光性能。
用途：研磨抛光用氧化铝可用于制作抛光蜡，抛光液或抛光膏的骨料，用于电子材料研磨；单晶硅片等半导体电子材料的研磨；用于光学玻璃抛光；显像玻壳、计算机硬盘、光学镜头等的表面抛光；用于装饰材料抛光；适用于各种**石材、各种金属装饰材料等的抛光。
抛光用氧化铝
| 主要技术性能指标： |
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| 牌号 |
Al2O3 |
SiO2 |
Fe2O3 |
Na2O |
真比重 |
结晶粒径 |
备注 |
| (≥,%) |
(≤,%) |
(≤,%) |
(≤,%) |
(≥,g/cm³) |
（um） |
| JS-501F |
99.2 |
0.2 |
0.05 |
0.4 |
3.90 |
0.1-0.3 |
超精光 |
| JS-502F |
99.2 |
0.2 |
0.05 |
0.3 |
3.94 |
2-3 |
中抛 |
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