产品介绍：该研磨抛光微粉是以徳国进口工业氧化铝粉为主要原料,采用特殊矿化剂、高温控制晶粒形状及大小,经特殊处理和严格的分级而制成。硬度仅次于金刚石,是非常优异的精密研磨抛光、研磨微粉。
1、平板型氧化铝研磨抛光微粉的性能:
平板型氧化铝研磨抛光微粉颗粒呈独特的平板状结构,硬度高达莫氏九级,磨削力强,不易产生划痕,可得到高效率、高精度的被加工表面,有特殊设计的粒度分布,质量和日本FUJIMI公司相当。
2、平板型氧化铝研磨抛光微粉的特点:
1）平板型氧化铝研磨抛光微粉与其它氧化铝研磨抛光微粉的*大区别是：片状，硬度高，粒度均匀。
2）特点为：
A、形状为平板状，即片状，使磨擦力增大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可减少磨片机的数量、人工和磨削时间，如显像管玻壳磨削工效能提高3-5倍；
B、由于形状为平板状，故对于被磨对象（如半导体硅片等）来说不易划伤，合格品率可提高10%至15%，如半导体硅片，其合格品率一般能达到99%以上；
C、由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高，故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少，如果磨同样数量的产品，其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40%至50%；
D、与国外同类产品相比，质量达到或超过国外同类产品，品质已达到国际标准，但产品价格只有国外同类产品的50%；
E、由于平板型氧化铝研磨抛光微粉的优良性能，故加工的产品合格品率高，质量稳定，生产成本只有原来的50%-60%。（具体数据可见用户报告）
平板型氧化铝研磨抛光微粉的用途:
1）电子行业 : 单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体的研抛。2）玻璃行业 : 硬质玻璃和显象管玻壳的加工。3）涂附行业 : 特种涂料和等离子喷涂的填充剂。4）金属和陶瓷加工业。
三, 平板状(片状)氧化铝研磨微粉(AL2O3)性能指标：
化学成份:AL2O3:99.6 SiNa2O2:0.027
Na2O:0.03 Fe2O3 0.03
粒度分布:
粒度分布 微米（µm）
产品 平均粒度（D50值）（由Coulter Counter测试）
WTA3 3.1
WTA5 4.8
WTA9 6.5
WTA12 8.0
WTA15 10.5
WTA20 14.5
WTA25 17.5
WTA30 20.5
WTA35 24.5
WTA40 30.5
WTA50 38.0