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乐思:*新ViaForm镶铜镀工艺荣获美国**
时间: 2008/4/1 9:21:16        来源: 中国选矿选煤网        浏览量: 210517        字体选择:     
  乐思公司的ViaForm?整平剂化学镶铜镀层已荣获第7,316,772项美国**。位于康涅狄格州丹伯里市的先进科材股份有限公司是ViaForm的全球**营销商与分销商。 

    这项*新**为ViaForm镶铜镀工艺之前获得的几项**提供了补充和更多支持。ViaForm整平剂是半导体行业首例支持标准三步加成镶嵌电镀系统的整平剂,大大提高了整个晶圆表面的铜共面性。

    乐思公司总裁Huub van Dun说:“随着设备外形不断缩小,铜电镀面临大量新挑战,包括如何对狭窄、深长的特征进行无空洞填充、在较薄的种子层上实现均匀电镀及减少电镀故障。经过不断改进,ViaForm化学品使我们客户大大减少了表面缺陷并提高了产量,从而克服了以上挑战。” 

    van Dun说:“乐思与先进科材联合为全球大型半导体制造商提供服务与支持。合作伙伴依靠我们为其提供成功必需的使能技术和支持。很荣幸能够与行业**设备制造商和OEM建立以客户为重心的合作关系。ViaForm获得这项**,证实了其相较于其它所有镶铜镀工艺的优越性。” 

    先进科材首席执行官Doug Neugold说:“通过研究铜电镀相关问题,我们认识到,乐思正是我们寻找的合作伙伴。ViaForm为从事先进铜材料工作的客户提供了一种明显的增值解决方案。” (完)

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